SMIC test eerste Chinese immersie-DUV-lithografiemachine

lithografie

SMIC is begonnen met het testen van zijn eigen DUV-machine en wil het productieproces volledig binnen China houden.

China’s grootste chipfabrikant, Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), test volgens Financial Times een van China’s eerste immersie-DUV-lithografiemachines (deep ultraviolet).

Klaar voor productie in 2027

Het systeem is een 28-nanometer (nm) DUV-lithografiemachine die ook gebruikt kan worden voor de productie van 7nm of zelfs 5nm door multi-patterningtechnieken. De ontwikkeling gebeurt door Shanghai Yuliangsheng Technology Co, een lokale start-up die verbonden zou zijn aan Huawei.

De machine bestaat vooral uit Chinese onderdelen, maar er worden er ook nog steeds geïmporteerd. De DUV-tools komen van het Nederlandse bedrijf ASML, schrijft Trendforce. Het bedrijf probeert de hele supply chain binnen China te houden. Zo is het niet meer gebonden is aan Amerikaanse of Europese exportregels. De bedoeling is om de machine in 2027 actief te beginnen produceren bij SMIC.

Nog enkele obstakels te overwinnen

Hoewel SMIC stelt dat 7nm- en 5nm-chips mogelijk zijn op deze 28nm-machine via multipatterning, zeggen experts dat daarvoor eerst nog een ingrijpende verandering van het ontwerp nodig is. Zelfs als de machine in 2027 28nm kan produceren, zal het nog jaren duren voordat SMIC naar 16nm en 7nm kan opschalen. Productie lager dan 10nm op eigen machines lijkt dus op zijn vroegst haalbaar rond 2030.